原子层沉积生长速率的控制研究进展
卢维尔1, 董亚斌1,2, 李超波1, 夏洋1, 李楠1

Research Progress on Growth Rate Controlling of Atomic Layer Deposition
LU Wei-Er1, DONG Ya-Bin1,2, LI Chao-Bo1, XIA Yang1, LI Nan1
图7 离子刻蚀前处理a和没有进行前处理b沉积8 nm Ru的SEM照片 [ 30 ]
Fig. 7 SEM images for Ru8 nmTaN30 nmSi with RIE pretreatment a and without RIE pretreatment b [ 30 ]