原子层沉积生长速率的控制研究进展
卢维尔1, 董亚斌1,2, 李超波1, 夏洋1, 李楠1

Research Progress on Growth Rate Controlling of Atomic Layer Deposition
LU Wei-Er1, DONG Ya-Bin1,2, LI Chao-Bo1, XIA Yang1, LI Nan1
图1 ALD窗口温度示意图 [ 8 ]
Fig. 1 Schematic drawing of the ALD window [ 8 ]