电场作用下铅基阳极表面氧化膜残余内应力产生机理研究
李建中, 韦丽华, 王勃, 孙秀丽, 田彦文
东北大学 材料与冶金学院, 沈阳 110004

李建中(1976-), 男, 副教授. E-mail:lijz@smm.neu.edu.cn

摘要

采用SEM、XRD和Raman光谱法研究电场作用下含铬溶液中铅基阳极氧化膜的残余内应力行为、内应力形成, 讨论了氧化膜内应力产生过程与氧化膜表面形貌、物质结构转变的关系。结果表明, 在氧化膜形成初期, Cr2O72- 和HCrO4-离子首先吸附在铅基阳极表面, 电场作用下, 其与铅基体反应并分别形成PbCrO4和PbO, 同时产生较大内应力。电流密度的增加, 显著提高氧化膜的内应力。随着氧化时间的延长, 阳极析氧行为的加剧, 促进PbO或β-PbO2形成。同时, 晶粒长大与内应力的不匹配, 导致内应力局部释放, 表现出氧化膜残余内应力减小。铅基氧化膜中不同氧化物组织结构的晶格参数差异, 增加了氧化膜内应力梯度变化, 致使氧化膜破裂。

关键词: 电场; 铅合金; 阳极; 氧化膜; 残余内应力
中图分类号:文章编号: 1000-324X(2013)09-0961-06   文献标志码:A    文章编号:1000-324X(2013)09-0961-06
Mechanism of Residual Stresses in Anodic Oxidized Film on Lead Substrate under Electric Field
LI Jian-Zhong, WEI Li-Hua, WANG Bo, SUN Xiu-Li, TIAN Yan-Wen
School of Materials and Metallurgy, Northeastern University, Shenyang 110004, China
Abstract

Mechanism of residual stresses generated in anodic oxidized film on lead alloy substrate was investigated using CrO3 solution with the influence of electric field. The stresses formation process, their relationship with surface morphology and structure of oxidation film were discussed in details based on the results of SEM, XRD and Raman tests. It is indicated that Cr2O72- and HCrO4- ions are absorbed on lead alloy surface in the initial formation process of oxidation film. Then PbCrO4 is formed on the interface of Cr2O72- and Pb. HCrO4- oxidizes Pb into PbO under electric field. At the same time, the stresses are generated gradually in the oxide film and increase quickly with current density increase. However, enhanced oxygen evolution promotes the formation of PbO or β-PbO2 with the increase oxidation time. Meanwhile, the growth of crystalline grain for lead oxides is believed to be mismatched with the developing inner stresses, releasing inner stresses, which lead to residual stresses decreasing in oxidation film. The film is cracked because stresses gradient increases remarkably in oxidized film due to the crystal lattice difference in different lead oxides.

Keyword: electric field; lead alloy; anode; oxidation film; residual stresses

铅基阳极材料具有导电性良好、耐腐蚀性强、机械强度和加工性能好、使用寿命长等特点, 在电镀、电解、铅酸电池以及氯碱工业等湿法冶金领域有着广泛的应用[ 1, 2, 3, 4]。但是, 电场作用下铅基阳极材料在含有铬离子、硫酸根离子、氟离子或氯离子电镀/电解液中易发生氧化腐蚀, 且随着氧化进行阳极表面氧化膜结构发生转化, 致使阳极表层氧化膜变得疏松、多孔, 导致脱落。而脱落的铅氧化物影响电镀/电解液的组成、工艺参数, 甚至影响阴极还原产品的质量。因此, 目前较多的研究集中于铅基阳极合金成分设计、制备工艺及其阳极形状等方面, 在考虑降低析氧电位的同时, 旨在提高阳极耐蚀性和使用寿命[ 5, 6, 7, 8]

然而, 电场作用下铅基阳极表面氧化膜易产生内应力, 且随着氧化进行, 内应力也随之变化。薄膜内应力不管是拉应力还是压应力, 都会在膜-基体或膜-膜界面产生剪切应力。当剪切应力克服膜-基体界面间的附着力或者膜-膜间结合力时, 会加剧阳极腐蚀[ 9]。因此, 研究铅基阳极表面氧化物内应力的产生过程对掌握阳极腐蚀过程和阳极动力学行为具有重要的理论意义。由于含铬溶液具有较强的氧化特性和酸性, 对铅基阳极腐蚀具有典型性, 且其在金属表面处理领域有着广泛的应用。因此, 本工作侧重高电流密度条件下含铬溶液中铅基阳极在氧化膜内应力产生过程的研究。

1 实验方法
1.1 试样制备

采用商用铅合金阳极材料作为研究对象, 其成分为Pb-3wt%Sn-0.5wt%Ag。试样尺寸均为50 mm× 40 mm×8 mm, 用1000号砂纸打磨确保阳极表面状态的均匀性。然后, 采用去离子水和丙酮清洗铅阳极表面, 待用。

以化学纯铬酐作为溶质, 配置130 g/L CrO3电解质溶液。以处理后的铅合金作为阳极, 低碳钢板作为阴极, 组成电解体系。改变电解时间10、30、60 s 或 15、30、60、90 min, 调整电流密度0、10、20、30 A/dm2, 制备不同条件下铅基阳极氧化膜试样, 并进行相关检测, 研究各条件下阳极氧化膜内应力及其组织结构的变化。

1.2 检测方法

采用扫描电镜观察不同条件下铅合金阳极氧化过程氧化膜的表面形貌。应用Rigaku D/max-rA X射线衍射仪(靶材Cu Kα)分析相应阶段的铅阳极氧化膜表面结构, 衍射角扫描范围2 θ=10°~80°, 扫描电位和电流分别为45 kV、40 mA, 扫描速度和步长分别为8o/min、0.02°。应用2 θ与sin2 Ψ( θ为衍射角, Ψ为样品的侧倾角)测定方法, 改变侧倾角 Ψ分别为0°、25.66°、37.76°、48.59°、60°, 采用交相关方法确定衍射峰位, 得到2 θ与sin2 Ψ曲线的斜率, 进而计算不同条件下铅基氧化膜后内应力。

采用JOBIN YVON HR800拉曼光谱仪, He-Ne激光波长633 nm, 夹缝宽度300 μm, 采用50倍长焦距镜头聚焦, 并调节斑束大小使入射光在试件表面聚焦成1 μm大小的光斑, 激光功率17 mW观察试样, 采用积分时间30 s, 积分次数2次获取不同条件下铅阳极氧化膜拉曼光谱。每个样品都重复扫描3次, 各样品的拉曼谱图都由计算机作信号累加平均并绘图输出, 峰位误差小于±1 cm-1

2 结果与讨论
2.1 阳极氧化膜的残余内应力

应用X射线测定不同氧化时间铅阳极表面相结构, 采用相交法确定衍射峰位, 得到2 θ与sin2 Ψ之间关系, 如图1所示。由图1(a)可知, 不同氧化时间氧化膜的2 θ与sin2 Ψ线性斜率分别为 S15min=0.101, S30min=0.062, S60min=0.034, S90min=0.012。采用双轴应力计算应力值, 其公式如下[ 10]:

(1)

其中, ν是样品的泊松比(铅合金 ν=0.42), E是样品的杨氏弹性模量(铅合金 E=17 GPa), σ是氧化膜残余内应力。直线斜率为正时, 表示拉应力, 斜率为负时, 表示压应力。由公式(1)计算可知, σ15min= 1.21 GPa, σ30min=0.74 GPa, σ60min=0.41 GPa, σ90min= 0.14 GPa。由此可知, 电场作用下铅阳极表面氧化膜表现为拉应力, 且随着氧化时间的延长, 阳极氧化膜的残余内应力逐渐较小。

图1 不同氧化时间铅阳极的2 θ与sin2 Ψ关系Fig. 1 Relationship between 2 θ and sin2 Ψ of lead alloy anode oxidized for different time

为了弄清电场作用下阳极氧化膜内应力行为, 采用SEM和XRD分析了相同条件下氧化膜形貌和组织结构, 分别如图2图3所示。由图2含铬溶液中不同氧化时间铅阳极表面氧化膜形貌的变化可知, 当氧化时间较小(15 min)时, 铅阳极表面存在细小晶粒和晶须, 氧化膜虽不致密, 但未出现裂纹现象。当氧化时间达到30 min时, 氧化膜局部出现了较大孔隙, 细小的晶粒逐渐增多, 且出现密堆积, 同时晶须逐渐长大, 但其呈现出被“颗粒状”晶粒覆盖的趋势。随着氧化时间进一步增加到60和90 min, 阳极表面的氧化膜局部出现了明显裂纹, 且90 min氧化膜裂纹较60 min氧化膜裂纹粗大。同时, 密堆积的细小晶粒成长为大晶粒, 而晶须消失。结合其相应的XRD图谱(图3所示)可知, 当氧化时间为15 min时, 阳极氧化膜含有PbCrO4和PbO相衍射峰, 随着氧化时间的增加, PbCrO4相衍射峰明显减弱, 同时, PbO2相衍射峰明显增强。综合图1、2和3分析可知, 当氧化膜较薄时, 氧化膜与基体保持相同的晶体生长方向, 形成晶粒较小的PbO和PbCrO4晶须, 但是由于定向生长过度, 使得金属与氧化膜的晶格常数不一致, 发生扭曲, 形成了氧空位缺陷, 且出现的两种PbO和PbCrO4氧化物加剧了氧空位缺陷发生率。在氧空位周围的原子倾向于向空位塌陷, 从而产生拉应力。但当晶型相对较完整时, 氧化膜内应力没有得到释放。随着氧化的进行, 金属表面的氧化膜组成、相结构进一步发生变化, 形成β-PbO2晶粒并长大, 晶格常数也发生了改变, 伴随着氧化膜内应力及其梯度变化。但由于铅合金及其化合物的弹性模量较低, 晶粒长大无法匹配逐渐增长的内应力及其梯度变化, 进而造成内应力释放, 阳极氧化膜出现裂纹, 表现残余应力降低, 且随着氧化时间的增加, 氧化膜裂纹逐渐增大, 氧化膜残余应力进一步减小。

图2 不同氧化时间铅合金阳极表面的SEM形貌Fig. 2 Surface morphologies of lead alloy anode oxidized for different time

图3 不同氧化时间铅阳极的XRD图谱Fig. 3 XRD patterns of lead alloy anode oxidized for different time

2.2 阳极氧化初期的内应力

由上述分析可知, 电场作用下铅基氧化膜表面内应力的产生初期行为非常重要。而采用XRD方法测定氧化膜内应力只适合氧化膜较厚时(经SEM断面分析, 试验氧化时间15 min时, 铅基氧化膜厚度大于7 μm), 对于氧化膜厚度小于2 μm时XRD方法无法准确测定其内应力。本文采用Raman光谱法分析氧化膜生成初期内应力变化行为, 其基本原理如下[ 11]: σ=IN*Δ ω(GPa) (2)

其中, IN(GPa/cm-1)是比例常数, 不同的金属材料, 其比例常数 IN不同; Δ ω(cm-1)是Raman特征峰波数位移, Δ ω= ωs- ω0, ωs是样品电解后特征峰波数, ω0样品电解前特征峰波数。应力 σ的正负值分别与拉应力和压应力相对应。

图4为电场作用下铅阳极氧化初期的拉曼光谱。由图4可知, 电流密度和氧化时间的改变, 主要有两个拉曼主峰的峰位发生了变化, 其相应的峰位、特征峰波数及其位移如表1所示。结合图4表1可知, 随着电流密度的增加, 两个拉曼特征主峰均向波数减小的方向移动。同时, ai/bi峰强比也随之减小。但是随着电解时间的延长, 两个拉曼特征主峰向波数增大的方向移动, 且ai/bi峰强比也减小。由表1中峰位位移Δ ω的变化可知, 电流密度对氧化膜内应力的产生有着明显的影响, 即随着电流密度的增加, 铅基阳极表面氧化膜内应力增大。相对电流密度对氧化膜内应力的影响, 氧化时间影响较小。但是, 随着氧化时间的延长, 铅基阳极表面氧化膜内应力略有减小的趋势。根据晶体成核理论[ 12], 在大电流条件下原位形成的铅氧化物晶粒成核速度较快, 且晶核半径较大, 其具有较强的内应力承载能力。尽管氧化时间延长也可增加晶粒核半径, 但是, 从拉曼光谱ai/bi峰强比的变化可知, 氧化时间改变了Pb-O键的结合方式和结合能, 双重因素影响下造成其内应力变化不明显。由此可知, 铅基氧化物的内应力变化主要取决于物质结构和成核半径。

图4 电场作用下铅阳极氧化初期的拉曼光谱Fig. 4 Raman spectra of the initial oxidation for lead alloy anode under conditions of electric field(1)lead alloy anode before electrolysis; (b) lead alloy anode oxidized with different current densities (Time 20 s); (c) lead alloy anode oxidized for different time (Current density 20A/dm2)

表1 Raman谱不同峰位、特征峰波数及其位移 Table 1 Shift, characteristic and position of Raman different peaks
2.3 内应力形成过程中物质转变

铅基阳极表面氧化膜内应力的形成、演变与氧化膜成分、结构有着直接的联系。因此, 有必要弄清铅阳极氧化过程物质结构转变。图5为含铬溶液中未进行电解处理铅阳极表面和含铬溶液的拉曼光谱。由图5可知, 铅阳极表面的拉曼光谱特征峰位与含铬溶液的拉曼光谱特征峰位基本相同, 即~911 和~846 cm-1, 但二者峰强比差别很大。根据文献[13], 特征峰~911 cm-1对应Cr=O键, ~846 cm-1对应Cr-O-Cr键。在CrO3浓度小于200 g/L含铬溶液中, 主要存在两种Cr2O72- 和HCrO4-铬酸根离子, 且随着CrO3浓度增加, 溶液的pH值降低, 存在着式(3)的转化趋势。

图5 铅阳极表面和含铬溶液的Raman光谱Fig. 5 Raman spectra of lead alloy anode surface without electric field and CrO3 solution

(3)

由于铬氧离子团吸附特性明显强于水分子团, 造成铅阳极表面铬离子浓度明显地高于溶液本体浓度, 促进了反应(3)的正向进行。结合拉曼峰的强度变化可知, 特征峰~846 cm-1 对应着离子Cr2O72-, 而特征峰~911 cm-1对应着离子HCrO4-。基于铅阳极表面的特征峰位及其峰强比可知, 浓度130 g/L CrO3溶液中Cr2O72-更容易吸附。当电场作用下铅阳极发生氧化后, 其特征峰位发生明显移动, 峰位分别在~836 和~900 cm-1左右, 如图4(b)所示。根据文献[14], 峰位~836 cm-1对应着纯相PbCrO4, 而峰位~900 cm-1对应的物质可根据上述XRD结果分析得知, 即PbO。研究表明[ 15], CrO3溶液具有很强的电子亲和性和氧化性, 并易形成铬氧离子团, 如CrO n- ( n=1~5)。但是, 不同铬氧离子团具有不同的活化能, 当活化能量较低时, 铬氧离子团表现为 n=1~3; 当活化能量较高时, 铬氧离子团主要表现为 n=4~5。电场作用下, 活化能较低的CrO3-有释放氧原子的趋势, 而活化能较高的CrO5-有释放氧分子的趋势。基于此,可以推断吸附在铅阳极表面的Cr2O72-离子与物质PbCrO4之间存在如下反应历程:

(4)

(5)

而吸附在铅阳极表面的HCrO4-离子和物质PbO之间存在如下反应历程:

(6)

(7)

(8)

这也与氧化膜初期的XRD分析结果相一致。同时, 反应(4)和反应(7)释放出的CrO2-与阳极表面的OH-离子发生聚合反应(由于电场作用下负离子向阳极扩散)。

(9)

由以上反应历程可知, 随着氧化时间的延长, 根据反应(5)和(6)可知析氧行为加剧, 释放出大量的活性氧, 这促进了铅氧化物的形成, 即拉曼光谱峰位~900 cm-1强度增强。这也解释了ai/bi峰强比减小的原因。当氧化时间分别延长到30和60 min, 拉曼特征峰只有铅氧化物峰, 而铬酸铅的拉曼特征峰消失, 如图6所示。但是, 图6中拉曼特征峰的峰位(b8峰850.4 cm-1, b7峰846.0 cm-1)又明显地不同于PbO的峰位。根据图3中XRD分析结果可知, 此条件下铅阳极表面氧化膜主要成分为PbO2。这说明了随着氧化时间的延长, 析氧行为进一步加剧了PbO→PbO2氧化过程。

图6 长时间氧化铅基氧化膜的Raman光谱Fig. 6 Raman spectra of lead alloy surface oxidized for long time

结合XRD测定铅阳极氧化膜内应力和相同条件下图6中拉曼光谱特征峰, 可以确定拉曼法测定氧化膜内应力的比例常数 IN= -0.75 GPa/cm。结合表1中拉曼光谱的位移, 可知, 氧化膜初期的内应力远远高于氧化中期的氧化膜内应力, 其内应力最高达13.0 GPa。这也说明PbCrO4对氧化膜内应力的贡献明显大于铅氧化物, 因为铅基阳极氧化膜初期存在较多PbCrO4相, 且其晶格常数( a=0.7098 nm, b=0.7410 nm, c=0.6779 nm)要远远大于Pb( a= b= c= 0.4950 nm)、PbO ( a=0.5489 nm, b=0.4755 nm, c= 0.5891 nm) 和β-PbO2( a= b=0.4958 nm, c=0.3388 nm)晶格常数[ 16, 17]。随着氧化时间的延长, 出现了β-PbO2相, 致使氧化膜内应力梯度较大, 导致氧化膜破裂, 甚至脱落。

3 结论

1) 电场作用下含铬溶液中铅基阳极氧化膜的内应力行为、形成与氧化膜表面形貌、物质PbCrO4、PbO和PbO2结构转变有着直接关系。

2) 在氧化膜形成初期, 离子首先吸附在铅阳极表面, 电场作用下, 其与铅合金阳极反应并形成PbCrO4和PbO, 伴随着产生较大的拉应力, 且PbCrO4对氧化膜内应力的贡献明显大于铅氧化物。电流密度的增加, 促进了氧化膜内应力提高, 最高可达13.0 GPa。

3) 随着氧化时间的延长, 阳极析氧行为加剧, 促进了PbO或β-PbO2形成。同时, 晶粒长大与内应力不匹配, 导致内应力局部释放, 表现出氧化膜残余内应力减小, 即氧化时间90 min时氧化膜残余内应力0.14 GPa。

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